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李进延图谱-材料领域：

相关人员

李晶 干福熹 侯立松 谢泉 阮昊

研究领域

薄膜 射频磁控溅射 光学常数 反射率对比度 溅射功率 Ge2Sb2Te5 Ag8In（14）Sb（55）Te（23）相变薄膜

所属机构

中国科学院上海光学精密机械研究所

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