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李进延图谱-材料领域:
相关人员
李晶
干福熹
侯立松
谢泉
阮昊
研究领域
薄膜
射频磁控溅射
光学常数
反射率对比度
溅射功率
Ge2Sb2Te5
Ag8In(14)Sb(55)Te(23)相变薄膜
所属机构
中国科学院上海光学精密机械研究所
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