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胡国新图谱-材料领域：

相关人员

王晓亮 刘成海 王国祥 林兰英 孙殿照 李晋闽 曾一平 刘宏新

研究领域

液固共融 HFET 渗流 离心铸造 界面移动速度 传热 二维电子气 材料合成与加工工艺

所属机构

上海交通大学 上海交通大学铸造研究所 中国科学院半导体所材料中心 上海交通大学工程热物理研究所

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