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胡伟达图谱-材料领域:
相关人员
周庆
王茺
李亮
王洪涛
杨宇
研究领域
短沟道效应
拐角效应
三栅FinFET
亚阈值摆幅
所属机构
云南大学物理科学技术学院
云南大学工程技术研究院光电信息材料研究所
中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家...
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