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朱健图谱-材料领域：

相关人员

陶卫 施天生 温树林

研究领域

高温超导 MOCVD 缺陷 薄膜

所属机构

中国科学院上海冶金研究所 中国科学院高性能陶瓷和超微结构实验室

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