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朱作云图谱-材料领域：

相关人员

贾护军 杨银堂 李跃进 柴常春

研究领域

多晶碳化硅 结晶度 二氧化硅 淀积温度 温度 外延生长 热氧化 β－SiC薄膜

所属机构

西安电子科技大学微电子所 西安电子科技大学微电子研究所

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