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方铭图谱-材料领域：

相关人员

干福熹 王现英 李青会 沈德芳

研究领域

SbOx薄膜 磁存储 DSC 结晶动力学 无机非金属材料 研究进展 XRD 反应溅射 FePt 薄膜

所属机构

中国科学院上海光学精密机械研究所

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