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方起图谱-材料领域：

相关人员

胡克鳌 林祖纕 彭定坤 孟广耀

研究领域

氧化钇 等离子体化学气相淀积 氧离子导体 氧化锆 薄膜

所属机构

中国科学技术大学应用化学系 中国科学院上海硅酸盐研究所

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