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杨宇图谱-材料领域:
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研究领域
短沟道效应
可见光致发光
Co/Si多层膜
钽
磁控溅射
偏压
退火
GeSi薄膜材料
aSi∶Co薄膜
SiGe多层膜
太阳能电池
晶化率
Ge薄膜
亚阈值摆幅
纵向Raman光谱
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晶粒尺寸
量子阱
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X射线小角衍射
三栅FinFET
Ar能量
离子束溅射
折射率修正值
电阻温度系数
小角衍射
微晶硅薄膜
拐角效应
所属机构
云南昆明
云南大学材料科学与工程系
云南大学光电信息材料研究所
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云南蒙自
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