电脑体验，效果更佳

杜海峰图谱-材料领域：

相关人员

沈祖洪 刘文川 郑国斌 邓景屹 王道岭 周星明 汤素芳 杨柯

研究领域

HCVI 碳化硅涂层 电磁场 隔热 直热式 化学气相渗 烧蚀 复合材料

所属机构

辽宁沈阳 中国科学院金属研究所 中科院沈阳金属研究所

标签云