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张卫图谱-材料领域：

相关人员

刘志杰 刘辅宜 万永中 夏钟福 李平 张剑云 王季陶 张冶文

研究领域

低介电常数 化学气相淀积 金属材料 AF薄膜 含氟氧化硅 气相生长 原子层淀积（ALD） 薄膜

所属机构

复旦大学 同济大学 广东广州 复旦大学电子工程系 上海复旦大学电子工程系 上海交通大学微电子研究所 复旦大学电子工程系CVD研究室 复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室

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