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公衍生图谱-材料领域：

相关人员

涂溶 後藤孝

研究领域

激光化学气相沉积（LCVD） 快速生长 取向 TiNx薄膜

所属机构

日本东北大学金属材料研究所 中国地质大学（武汉）教育部纳米矿物材料及...

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