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ShoichiKimura图谱-材料领域：

相关人员

全学军

研究领域

热力学分析 碳化硅（SiC） 复合粉体 氮化硅（Si3N4） 化学气相沉积工艺（CVD）

所属机构

俄勒冈州立大学 四川大学（西区）粉体研究所

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