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淀积速率图谱-计算机领域：

研究人员

黎威志 赵友洲 袁凯 亢喆 张礼德 张萍 蒋亚东

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成品率 低压化学气相淀积 氮化硅薄膜 氮化硅膜 氧化硅 等离子增强化学气相淀积 不均匀性 工艺条件 二氧化硅 光刻胶 折射率

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